光刻胶概念多股涨停，机构：需求放量国产替代正当时丨牛熊眼

周二午后，光刻胶概念股继续飙升。截至发稿，强力新材、容大感光、南大光电3股涨停，晶瑞股份、江化微、金龙机电、光华科技等多股亦涨超7%。整个概念板块指数涨幅5.8%，位居涨幅榜首位，远远领先大市。

消息面，据外媒最新报道，日本经济产业省已经部分解除了对韩国出口光刻胶的限制。今后，日本企业可以向LG、三星、SK海力士等韩国企业提供最多三年的光刻胶出口合同，而不必每一笔出口都要获得许可。

据悉，光刻是整个集成电路制造过程中耗时最长、难度最大的工艺，耗时占IC制造50%左右，成本约占IC生产成本的1/3。光刻胶是光刻过程最重要的耗材，光刻胶的质量对光刻工艺有着重要影响。

中银国际表示，集成电路光刻工艺环节，包括涂胶、光刻、显影、刻蚀、去胶、清洗、烘干等，因此光刻工艺设备，主要是指光刻机、涂胶显影设备、去胶设备和相关检测设备。全球89%的光刻机市场被ASML垄断，全球88%的涂胶显影设备市场被TEL垄断，光刻机和涂胶显影设备国产化率非常低；去胶设备国产化率达到81%，去胶设备主要是屹唐半导体实现国产化。

广发证券认为，根绝统计国内晶圆投资情况，建厂热潮直接带动晶圆代工产业链快速成长，光刻胶直接用于实际生产过程且具备采购相对迅速特点，预计2019—2020年为国内光刻胶需求快速放量期。在供给端，国家政策推动自主可控、国内光刻胶技术逐渐突破、代工厂商分摊供应商风险将持续推动内资晶圆代工厂商提升对国产光刻胶的接受程度，给予国内优质的光刻胶厂商快速成长的机会。

国元证券认为，光刻胶作为技术门槛极高的电子化学品一直被国际企业垄断。随着大力研发和投入，国内企业已逐步从低端PCB光刻胶发展至中端半导体光刻胶的量产，以科华微电子和晶瑞股份为代表的企业已经实现了i线光刻胶的突破并获得下游量产订单。以强力新材为代表的企业也已经实现了光刻胶上游光引发剂和光酸等原材料的国产化，打破国际垄断，随着更多国内晶圆厂的新建，下游客户导入也有望加速，产业链的完善有助于上游企业更好的开发出更先进的产品。

国元证券认为，光刻胶由于研发和下游导入周期都较长，往往需求企业长时间的积累，因此光刻胶也只作为电子化学品公司其中一个产品，如晶瑞股份还生产高纯试剂，飞凯材料还生产液晶材料；光刻胶技术门槛高，周期长，一旦实现量产和下游导入，将成为公司较为长期的高毛利率产品，给予光刻胶等相关电子化学品行业“推荐”评级。建议关注行业已量产和业绩稳定类企业如晶瑞股份、飞凯材料、南大光电等。