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18:24【三星电子:HBM5将采用2纳米GAA工艺,速度较HBM4E提升50%以上】据报道,三星电子半导体事业部技术开发室长具子铉在接受采访时表示,预计下一代HBM5内存的运行速度将比HBM4E快50%以上。“HBM5基础芯片将采用GAA结构的2纳米工艺,并实现更高集成度的硅通孔(TSV)”,具子铉称。