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容大感光回复关注函称高端产品尚存瓶颈,光刻胶技术难在哪?

第一财经 2023-03-14 19:53:47

作者:樊雪寒    责编:李娜

自3月8日以来光刻胶(861285)概念指数涨幅达到6.69%,彤程新材(603650.SH)股价涨幅达17.2%,南大光电(300346.SZ)股价涨幅达17.84%,上海新阳(300236.SZ)股价涨幅达16.13%。

容大感光(300576)3月13日晚间回应深交所的关注函时表示,目前公司显示用光刻胶、半导体光刻胶的品质性能仅能满足中低端客户的要求,要开发中高端客户需要的产品尚存在技术瓶颈。

14日,容大感光盘中震荡下探,盘中一度跌超8%,截至当天收盘,容大感光股价报36.20元/股,跌0.88%。

自3月8日以来,与光刻胶相关公司的股价在市场上收获了一波上扬,自3月8日以来光刻胶(861285)概念指数涨幅达到6.69%,彤程新材(603650.SH)股价涨幅达17.2%,南大光电(300346.SZ)股价涨幅达17.84%,上海新阳(300236.SZ)股价涨幅达16.13%,容大感光于3月8日、9日收获连续两个交易日的20%涨停,引深交所关注。

光刻胶市场发生了什么?

3月9日,荷兰光刻机巨头阿斯麦公司发布声明表示,荷兰政府计划对半导体技术出口实施新的管制,公司预计必须申请许可证方可出口DUV设备。

消息传出后,市场上多支光刻胶概念股飘红,这一热度一直持续到3月10日,在数家公司发布提示风险以及深交所对容大感光下发关注函后,光刻胶板块的火热逐渐降温。

触发容大感光“20cm”涨停的是公司于3月8日午间披露的一份投资者关系活动记录表。根据内容,容大感光表示,经过多年来的技术攻关,公司的干膜光刻胶、显示用光刻胶、半导体光刻胶等产品已经面向市场实现了批量销售,其中部分产品已进入核心客户的供应链体系,公司干膜光刻胶、显示用光刻胶、半导体光刻胶等产品的销售将会是公司未来业绩发展的驱动点,未来随着公司募投项目产能的逐步释放,公司将迎来新的发展阶段。

3月10日,深交所对容大感光下发关注函并要求公司补充披露感光干膜光刻胶、显示用光刻胶、半导体光刻胶的主要技术特征、技术优势、当前产能及产能利用率、在核心客户供应链体系中的具体定位等信息。

13日晚间,容大感光在回复深交所的关注函中称,干膜光刻胶、显示用光刻胶、半导体光刻胶产品国产化率较低,公司相关产品的市场占有率也较低,这三个系列产品对公司的利润影响有限。目前公司显示用光刻胶、半导体光刻胶的品质性能仅能满足中低端客户的要求,要开发中高端客户需要的产品尚存在技术瓶颈。

一位长期关注光刻胶市场的投资人表示,容大感光在显示器光刻胶方面有突破,半导体的光刻胶刚有涉猎,就总体营收而言,公司是专业做光刻胶的,虽说是低端的PCB光刻胶,但这块利润不低,市场较大,但是容大感光目前最应该关注的,是高端产品何时放量的问题。

容大感光披露的信息显示,截止2022年1-9月,公司的感光干膜光刻胶销售收入为923.37万元,显示用光刻胶、半导体光刻胶销售收入共为2,136.70万元,这三个系列产品占同期公司营业收入的比例为5.65%,销售占比依然很小、对公司的利润贡献有限。

记者从容大感光内部人士获悉,公司目前对于“高端光刻胶产品”的定义为KrF光刻胶、 ArF光刻胶和EUV光刻胶产品,然而这些产品公司目前少有触及,公司目前的产品主要是中低端的、局限于i线光刻胶产品。

半导体光刻胶技术难点在哪

目前光刻机曝光光源一共有六种,分别是紫外全谱、 G 线、 I 线、深紫外和极紫外,相对应于各曝光波长的光刻胶分别为,g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶、 ArF光刻胶、EUV光刻胶。

光刻胶根据应用领域划分可以分为PCB光刻胶、显示用光刻胶和半导体光刻胶,下游主要应用于PCB、显示面板及半导体的生产制造,并最终广泛应用于消费电子、汽车、航空航天等关键行业。目前多数国内企业和容大感光一样,在PCB光刻胶和显示用光刻胶方面的技术相对成熟,而在半导体光刻胶方面还有待于长足发展。

记者了解到,光刻胶技的术壁垒主要体现在配方技术、质量控制技术和原材料技术三方面。配方技术是光刻胶实现功能的核心,光刻胶原材料的品质对光刻胶的质量起着关键作用。

一般一块半导体芯片在制造过程中需要进行10-50 道光刻过程,由于基板不同、分辨率要求不同、蚀刻方式不同等,不同的光刻过程对光刻胶的具体要求也不一样,即使类似的光刻过程,不同的厂商也会有不同的要求。针对以上不同的应用需求,光刻胶的品种非常多,这些差异主要通过调整光刻胶的配方来实现。

不过,光刻胶是一种经过严格设计的复杂、精密的配方产品,由树脂、光引发剂、溶剂和添加剂等不同性质的原料,通过不同的排列组合,经过复杂、精密的加工工艺而制成。这就导致光刻胶配方的调整存在一定的试错成本。

由于用户对光刻胶的稳定性、一致性要求高,需要光刻胶对感光灵敏度、膜厚的一致性保持在较高水平,因此,光刻胶生产商不仅仅要配置齐全的测试仪器,还需要建立一套严格的QA 体系以保证产品质量稳定。因此,能够通过调整光刻胶的配方,满足差异化的应用需求,是光刻胶制造商最核心的技术。

从全球光刻胶市场来看,各细分半导体光刻胶产品市场主要被日美厂商分食。根据 Trendbank 数据,全球光刻胶原料的主要生产企业分别位于日本、美国、中国、 韩国、英国以及荷兰。其中所属地在日本企业最多,占据全球光刻胶原材料生 产企业数量的 49%。虽然中国企业数量占比 29%,但在技术、产量、品类和规模方面有待追赶。

浙商证券的研报显示,目前国产g/i 线光刻胶供应商主要有晶瑞电材(苏州瑞红)、彤程新材(北京科华),总体在全球市场份额约10%。

在KrF光刻胶方面,国内的彤程新材(北京科华)、上海新阳、晶瑞电材(苏州瑞红)、徐州博康(华懋科技持有约26%股份)等都有布局,但实现量产供货的却不多,整体市场份额不到1%。

在ArF光刻胶方面,国内的南大光电、晶瑞电材(苏州瑞红)、彤程新材(北京科华)、上海新阳、徐州博康(华懋科技持有约26%股份)等也都有布局,但没有实现大批量量产供货。

“近期包括容大感光在内的光刻胶企业股价涨的都蛮厉害的,但是我们还是希望投资人和市场能够冷静对待这些消息。”容大感光证券部人士14日对记者表示。

不过容大感光在回复深交所的公告中表示,在国家政策支持、下游市场发展、持续研发投入等因素的综合影响下,我国光刻胶行业市场规模增长迅速。在PCB、显示面板和半导体产业发展加速的背景下,作为上游关键材料的光刻胶呈现出驶入快车道的趋势,国产光刻胶或将迎来快速发展的机遇。

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