捷佳伟创掩膜喷墨打印设备交付头部晶硅企业

近日，捷佳伟创自主研发的专用高精度掩膜喷墨打印设备正式交付国内头部晶硅光伏企业。该设备专为BC电池背面Poly层图形化工艺定制，替代传统激光开槽、干膜光刻方案，实现BC电池钝化层精细化图形化低成本量产。