优化创新环境和营商环境 我国将持续加强知识产权保护

国家知识产权局局长申长雨2日在杭州举行的第十届中国知识产权年会上表示，我国将继续坚定不移实施严格的知识产权保护制度，持续营造良好的创新环境和营商环境。申长雨表示，我国将实施更加严格的商标侵权惩罚性赔偿制度，加大对商标恶意注册和囤积行为的打击力度；同时，加快推进专利法的修改，建立侵权惩罚性赔偿制度和药品专利保护期补偿制度，延长外观设计专利保护期，更好地保护专利权。（新华社）

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